崗位職責(zé)
① 負(fù)責(zé)刻蝕工藝的開(kāi)發(fā)與優(yōu)化，制定并驗(yàn)證關(guān)鍵工藝參數(shù)，確保產(chǎn)品良率和性能達(dá)標(biāo)。
② 分析刻蝕過(guò)程中出現(xiàn)的異常問(wèn)題，提出改進(jìn)措施并推動(dòng)實(shí)施，提升工藝穩(wěn)定性和生產(chǎn)效率。
③ 配合設(shè)備工程師、材料工程師及工藝集成團(tuán)隊(duì)，完成新工藝、新材料的導(dǎo)入與量產(chǎn)評(píng)估。
④ 運(yùn)用統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制（SPC）、實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)（DOE）等工具對(duì)工藝數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，持續(xù)優(yōu)化流程。
⑤ 使用Sentaurus TCAD等仿真軟件進(jìn)行刻蝕工藝建模與模擬分析，支持工藝方案的設(shè)計(jì)與驗(yàn)證。
⑥ 編寫(xiě)工藝標(biāo)準(zhǔn)文件和技術(shù)報(bào)告，參與跨部門(mén)會(huì)議并提供技術(shù)支持。
⑦ 遵守行業(yè)安全規(guī)范與潔凈室操作規(guī)程，確保工作環(huán)境符合質(zhì)量與安全要求。

任職要求
① 微電子、半導(dǎo)體物理、材料科學(xué)或相關(guān)專(zhuān)業(yè)本科及以上學(xué)歷。
② 熟悉半導(dǎo)體制造流程，掌握干法刻蝕與濕法刻蝕原理及工藝特性。
③ 具備等離子體物理基礎(chǔ)，能夠根據(jù)材料選擇合適的刻蝕方法并優(yōu)化參數(shù)。
④ 熟練使用Sentaurus TCAD或其他工藝仿真軟件，具備建模與數(shù)據(jù)分析能力。
⑤ 熟悉SPC、DOE等質(zhì)量管理工具，有實(shí)際工藝優(yōu)化項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
⑥ 了解潔凈室操作流程及半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)安全規(guī)范。
⑦ 具備良好的溝通協(xié)調(diào)能力和團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神，能適應(yīng)多部門(mén)協(xié)同工作。

崗位職責(zé)：
1. 刻蝕設(shè)備維護(hù)、維修：依據(jù)設(shè)備規(guī)范及時(shí)進(jìn)行設(shè)備的維護(hù)及保養(yǎng)工作，保障設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。
2. 設(shè)備維修：對(duì)設(shè)備出現(xiàn)的故障及時(shí)維修處理，提升設(shè)備uptime。
3. 設(shè)備備件采購(gòu)：定期檢查易耗件庫(kù)存并提前采購(gòu)，做好costdown。
4. 兼任部門(mén)安全員，負(fù)責(zé)設(shè)備相關(guān)區(qū)域6S。定期進(jìn)行安全巡檢，及時(shí)排除安全隱患，出現(xiàn)安全事故按 照應(yīng)急流程及時(shí)進(jìn)行處理。
5. 設(shè)備相關(guān)的質(zhì)量文件完善、編制、培訓(xùn)。 任職要求：
應(yīng)聘人員基本條件
（一）具有良好的政治素質(zhì)和道德品行；
（二）符合招聘崗位所需的學(xué)歷學(xué)位、專(zhuān)業(yè)或技能條件（掃描二維碼下載）
（三）學(xué)風(fēng)端正，科學(xué)態(tài)度嚴(yán)謹(jǐn)，愛(ài)崗敬業(yè)；
（四）具有正常履行職責(zé)的身體條件和心理素質(zhì)；
（五）按中科院有關(guān)規(guī)定執(zhí)行親屬回避制度。

崗位要求
1. 工作態(tài)度認(rèn)真負(fù)責(zé)，積極主動(dòng)，有較強(qiáng)的學(xué)習(xí)、創(chuàng)新和溝通協(xié)調(diào)能力，具有團(tuán)隊(duì)互助精神。
2. 能熟練查找閱讀分析中英文設(shè)備資料，有自主分析解決問(wèn)題的能力。
3. 了解半導(dǎo)體工藝制程，具有無(wú)塵室工作經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先，具有設(shè)備維修工作經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。
4. 學(xué)歷本科以上，年齡35歲以下優(yōu)先，機(jī)電相關(guān)專(zhuān)業(yè)。

崗位職責(zé)：
1、負(fù)責(zé)晶圓濕法刻蝕與清洗設(shè)備的操作、維護(hù)和日常管理等；
2、負(fù)責(zé)項(xiàng)目中工藝方案的實(shí)施與驗(yàn)證；
3、協(xié)助解決晶圓濕法刻蝕與清洗工藝開(kāi)發(fā)中出現(xiàn)的各種問(wèn)題。 任職要求：
應(yīng)聘人員基本條件
（一）具有良好的政治素質(zhì)和道德品行；
（二）符合招聘崗位所需的學(xué)歷學(xué)位、專(zhuān)業(yè)或技能條件（掃描二維碼下載）
（三）學(xué)風(fēng)端正，科學(xué)態(tài)度嚴(yán)謹(jǐn)，愛(ài)崗敬業(yè)；
（四）具有正常履行職責(zé)的身體條件和心理素質(zhì)；
（五）按中科院有關(guān)規(guī)定執(zhí)行親屬回避制度。

崗位要求
1、化學(xué)、材料、機(jī)械、電子、機(jī)電一體化或相關(guān)專(zhuān)業(yè)，大專(zhuān)及以上學(xué)歷，1-2年相關(guān)技術(shù)經(jīng)驗(yàn)；
2、熟悉半導(dǎo)體、集成電路相關(guān)工藝和設(shè)備；
3、具有半導(dǎo)體或電子行業(yè)相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，有晶圓濕法刻蝕與清洗設(shè)備從業(yè)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。

崗位職責(zé)：
1.負(fù)責(zé)刻蝕設(shè)備及相關(guān)設(shè)備的日常測(cè)試、數(shù)據(jù)分析、技術(shù)開(kāi)發(fā)、撰寫(xiě)設(shè)備SOP；
2.負(fù)責(zé)刻蝕設(shè)備及相關(guān)設(shè)備的安裝、調(diào)試、培訓(xùn)、維護(hù)及運(yùn)行；
3.協(xié)助專(zhuān)用理化平臺(tái)搭建及分析表征技術(shù)開(kāi)發(fā)，建立分析測(cè)試規(guī)范；
4.完成平臺(tái)負(fù)責(zé)人交辦的其他事務(wù)。 任職要求：
招聘基本條件
1.具有突出的創(chuàng)新能力和發(fā)展?jié)摿?；具有遠(yuǎn)大的學(xué)術(shù)志向、求是的創(chuàng)新精神、卓越的科研能力和社會(huì)責(zé)任感；
2.身體健康，心理素質(zhì)良好，具有較好的學(xué)習(xí)能力和抗壓能力；
3.具有崗位所需的專(zhuān)業(yè)知識(shí)和相關(guān)經(jīng)驗(yàn)；
4.年齡不超過(guò)35周歲（1989年1月1日后生），領(lǐng)軍人才年齡不超過(guò)45周歲（1979年1月1日后生），特別優(yōu)秀的可適當(dāng)放寬。

任職要求：
1.具有碩士研究生及以上學(xué)歷，材料、半導(dǎo)體物理等相關(guān)專(zhuān)業(yè)；
2.具有2年以上刻蝕經(jīng)驗(yàn)，熟練掌握相關(guān)儀器和設(shè)備，具有集成電路行業(yè)背景或12寸FAB制程經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。

崗位職責(zé)：
1、圍繞清華大學(xué)微納加工中心的建設(shè)目標(biāo)，受中心主任的委派，承擔(dān)特殊刻蝕工藝研究與管理、及其相關(guān)數(shù)據(jù)的專(zhuān)業(yè)分析與撰寫(xiě)報(bào)告。研究開(kāi)發(fā)并維護(hù)特殊刻蝕工藝流程，研究并改進(jìn)相關(guān)設(shè)備的工藝水平，對(duì)微納加工中心用戶(hù)的相關(guān)研究需求提供技術(shù)咨詢(xún)與測(cè)試加工服務(wù)，并對(duì)用戶(hù)進(jìn)行設(shè)備操作與工藝培訓(xùn)，保障對(duì)相關(guān)前沿科研與教學(xué)工作在特殊刻蝕技術(shù)領(lǐng)域的支撐。
2、負(fù)責(zé)深硅刻蝕、各向同性硅刻蝕設(shè)備及其相關(guān)設(shè)備的開(kāi)放共享服務(wù)；
3、針對(duì)用戶(hù)對(duì)特殊刻蝕的特殊工藝需要，明確實(shí)驗(yàn)?zāi)康募叭蝿?wù)，設(shè)計(jì)總體實(shí)驗(yàn)流程，優(yōu)化工藝參數(shù)，解析工藝實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),評(píng)估工藝質(zhì)量；
4、負(fù)責(zé)儀器設(shè)備技術(shù)與培訓(xùn)資料的撰寫(xiě)與更新，以及對(duì)用戶(hù)進(jìn)行相關(guān)技術(shù)培訓(xùn)與考核；
5、新進(jìn)特殊刻蝕類(lèi)設(shè)備安裝、調(diào)試、實(shí)驗(yàn)、驗(yàn)收，與設(shè)備工程師合作完成；
6、支持與特殊刻蝕相關(guān)的實(shí)驗(yàn)教學(xué)工作，負(fù)責(zé)儀器設(shè)備針對(duì)實(shí)驗(yàn)教學(xué)的工藝開(kāi)發(fā)與改進(jìn)；
7、與設(shè)備工程師配合，完成特殊刻蝕及其相關(guān)輔助設(shè)備（包括特氣）的維修維護(hù)；
8、特殊刻蝕設(shè)備與工藝的對(duì)外宣傳與科普；
9、特殊刻蝕及其相關(guān)輔助設(shè)備的規(guī)劃、調(diào)研；
10、完成國(guó)家、省部級(jí)相關(guān)設(shè)備能力認(rèn)證項(xiàng)目或校內(nèi)外測(cè)試分析實(shí)驗(yàn)技術(shù)相關(guān)課題；
11、整理和推廣實(shí)驗(yàn)成果；
12、領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他工作。 任職要求：
1、具備堅(jiān)實(shí)的專(zhuān)業(yè)理論知識(shí)，掌握該專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域先進(jìn)理論并了解發(fā)展趨勢(shì)，可承擔(dān)該領(lǐng)域的相關(guān)研究；
2、在國(guó)內(nèi)外正規(guī)全日制大學(xué)獲得博士學(xué)位；或碩士學(xué)位，從事測(cè)試服務(wù)技術(shù)工作3年以上；或本科學(xué)位，從事測(cè)試服務(wù)技術(shù)工作6年以上；
3、取得中級(jí)及以上專(zhuān)業(yè)技術(shù)職務(wù)；
4、能夠獨(dú)立開(kāi)展測(cè)試服務(wù)及其技術(shù)研究工作。

崗位職責(zé)：
1.協(xié)助微納平臺(tái)刻蝕工藝設(shè)備的購(gòu)置，負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備的調(diào)試、運(yùn)營(yíng)及維護(hù)，確保設(shè)備性能最優(yōu)、運(yùn)行穩(wěn)定；
2.對(duì)國(guó)際頂尖的學(xué)術(shù)成果進(jìn)行深度學(xué)習(xí)和研究，為中心的器件刻蝕技術(shù)提升和能力拓展提供有力支持；
3.專(zhuān)注于器件刻蝕工藝的研發(fā)，提升技術(shù)實(shí)力，以完成中心的科研任務(wù)并推動(dòng)微納技術(shù)領(lǐng)域的重大突破。 任職要求：
1.博士學(xué)歷，量子器件、半導(dǎo)體器件、微電子等相關(guān)專(zhuān)業(yè)，有海外知名大學(xué)或企業(yè)工作經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先；
2.具備三年以上器件制造及研發(fā)的相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，精通版圖設(shè)計(jì)、氣相刻蝕、深硅刻蝕、濕法刻蝕等關(guān)鍵技術(shù)工藝；
3.對(duì)器件工藝流程有深入理解和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，具備相關(guān)領(lǐng)域的高級(jí)技術(shù)實(shí)力。

崗位職責(zé)：
負(fù)責(zé)微納研究與制造中心刻蝕工藝段儀器設(shè)備的日常管理和運(yùn)行維護(hù)工作，確保儀器設(shè)備的正常運(yùn)行；服務(wù)用戶(hù)開(kāi)展設(shè)備操作技能和理論知識(shí)培訓(xùn)及相關(guān)實(shí)驗(yàn)支撐工作；面向用戶(hù)任務(wù)需求優(yōu)化及開(kāi)發(fā)刻蝕工藝。 任職要求：
招聘條件
1.遵守中華人民共和國(guó)憲法和法律；
2.具有良好的公民意識(shí)和職業(yè)道德；
3.學(xué)風(fēng)端正，科學(xué)態(tài)度嚴(yán)謹(jǐn)，愛(ài)崗敬業(yè)；
4.崗位所需的專(zhuān)業(yè)或技能條件；
5.身心健康，具有適應(yīng)崗位要求的身體、心理素質(zhì)，體檢標(biāo)準(zhǔn)按照公務(wù)員錄用體檢通用標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行；
6.崗位所需的其他條件。

崗位條件
具有物理、化學(xué)、材料學(xué)、微電子學(xué)等相關(guān)專(zhuān)業(yè)博士學(xué)位；能夠獨(dú)立承擔(dān)刻蝕工藝段設(shè)備安裝、調(diào)試、運(yùn)行維護(hù)及工藝開(kāi)發(fā)；有微納加工經(jīng)驗(yàn)，熟悉刻蝕工藝，并具備分析解決工藝問(wèn)題的能力。
具有良好的團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神和服務(wù)意識(shí)，責(zé)任心強(qiáng)，作風(fēng)踏實(shí)，能長(zhǎng)期穩(wěn)定工作。

專(zhuān)業(yè)
物理類(lèi)、化學(xué)類(lèi)、材料類(lèi)、微電子類(lèi)等理工科相關(guān)專(zhuān)業(yè)

崗位職責(zé)：
1.協(xié)助微納平臺(tái)刻蝕工藝設(shè)備的購(gòu)置，負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備的調(diào)試、運(yùn)營(yíng)及維護(hù)，確保設(shè)備性能最優(yōu)、運(yùn)行穩(wěn)定；
2.對(duì)國(guó)際頂尖的學(xué)術(shù)成果進(jìn)行深度學(xué)習(xí)和研究，為中心的器件刻蝕技術(shù)提升和能力拓展提供有力支持；
3.專(zhuān)注于器件刻蝕工藝的研發(fā)，提升技術(shù)實(shí)力，以完成中心的科研任務(wù)并推動(dòng)微納技術(shù)領(lǐng)域的重大突破。 任職要求：
1.博士學(xué)歷，量子器件、半導(dǎo)體器件、微電子等相關(guān)專(zhuān)業(yè)，有海外知名大學(xué)或企業(yè)工作經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先；
2.具備三年以上器件制造及研發(fā)的相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，精通版圖設(shè)計(jì)、氣相刻蝕、深硅刻蝕、濕法刻蝕等關(guān)鍵技術(shù)工藝；
3.對(duì)器件工藝流程有深入理解和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，具備相關(guān)領(lǐng)域的高級(jí)技術(shù)實(shí)力。

崗位職責(zé)：
1.搭建、維護(hù)及運(yùn)行所負(fù)責(zé)的刻蝕設(shè)備，包含硅、三五族半導(dǎo)體、介質(zhì)等材料專(zhuān)用的電感耦合等離子體刻蝕機(jī)；
2.面向任務(wù)需求開(kāi)發(fā)及優(yōu)化刻蝕工藝；
3.穩(wěn)定復(fù)現(xiàn)刻蝕后圖形尺寸，編制設(shè)備操作及使用維護(hù)手冊(cè)，編寫(xiě)年度運(yùn)行報(bào)告；
4.開(kāi)設(shè)用戶(hù)培訓(xùn)課程；
5.領(lǐng)導(dǎo)交辦的其它相關(guān)工作。 任職要求：
基本條件
1.遵守中華人民共和國(guó)憲法和法律；
2.具有良好的思想政治素質(zhì)，品行端正，積極進(jìn)取；
3.碩士研究生及以上學(xué)歷；
4.年齡一般在38周歲以下（1987年8月1日以后出生）；
5.具有正常履行崗位職責(zé)的身體條件；
6.特別優(yōu)秀者可適當(dāng)放寬條件。

招聘條件
1.3年以上刻蝕工藝開(kāi)發(fā)/設(shè)備運(yùn)行／維護(hù)經(jīng)驗(yàn),含研究生期間工作經(jīng)驗(yàn)；
2.熟悉鎵砷基、銦磷基、硅基、氮化硅基、氧化物中一個(gè)或以上材料體系刻蝕工藝；3.能夠獨(dú)立承擔(dān)所負(fù)責(zé)工藝段設(shè)備安裝、調(diào)試、運(yùn)行維護(hù)，及工藝開(kāi)發(fā)；
4.較強(qiáng)的中英文讀寫(xiě)能力，良好的溝通協(xié)作及項(xiàng)目管理能力；5.有工業(yè)及準(zhǔn)工業(yè)級(jí)微納加工及芯片制造經(jīng)驗(yàn)。

崗位職責(zé)：
研究方向:精密激光刻寫(xiě)技術(shù)（紫外激光刻寫(xiě)技術(shù)、飛秒激光刻寫(xiě)技術(shù)等） 任職要求：
1.年齡不超過(guò)35周歲；在光電、物理、材料或化學(xué)等相關(guān)專(zhuān)業(yè)獲得博士學(xué)位，取得博士學(xué)位不超過(guò)3年（或通過(guò)博士畢業(yè)答辯）；
2.在國(guó)際主流刊物發(fā)表過(guò)SCI學(xué)術(shù)論文，有上述相關(guān)方向研究經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先考慮；特別歡迎具有生化及材料等方面背景的研究者來(lái)課題組進(jìn)行學(xué)科交叉研究；
3.具有嚴(yán)謹(jǐn)?shù)目蒲袘B(tài)度和良好的團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神，責(zé)任心強(qiáng)，熱愛(ài)科研，能夠獨(dú)立開(kāi)展科研工作，并具備較好的英語(yǔ)寫(xiě)作和表達(dá)能力。